山東創(chuàng)世威納科技有限公司
Shandong Chuangshiweina Technology Co., LTD.
總機(jī)：010-62907051
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銷售：010-62907051轉(zhuǎn)801/802/830
售后：010-62907051轉(zhuǎn)837
人事：010-62907051轉(zhuǎn)821
感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)
應(yīng)用方向：科研與教學(xué)
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：耐氟基或更弱腐蝕性氣體
產(chǎn)品配置：
★樣片數(shù)量及尺寸：1片Ф6英寸
★刻蝕材料：包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等
★刻蝕腔體：高真空系統(tǒng)
★刻蝕不均勻性：±3%-±6%
★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）
★工作臺(tái)：可升降，包含水冷
★電源配置：上電射頻，下電偏壓，包含自動(dòng)匹配
★氣路數(shù)量與種類：6路耐氟基腐蝕氣路 或 用戶選配
★深硅刻蝕系統(tǒng)：可選配
★He冷背吹系統(tǒng)：可選配
★終點(diǎn)檢測(cè)控制：可選配質(zhì)譜儀
★操作模式：全自動(dòng)+半自動(dòng)控制
類似產(chǎn)品：帶單片送樣室（ICP-5100）；帶單片送樣室耐腐蝕（ICP-5101）
設(shè)備詳細(xì)結(jié)構(gòu)與功能，請(qǐng)咨詢銷售工程師。
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