山東創(chuàng)世威納科技有限公司
Shandong Chuangshiweina Technology Co., LTD.
|
|
|
||||
|
|
|
||||
-
微電子 -
通訊 -
創(chuàng)世威納 應(yīng)用領(lǐng)域
公司產(chǎn)品定位于高新技術(shù)發(fā)展的基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)，并廣泛用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械、新材料、新能源等領(lǐng)域。 -
微機(jī)械 -
新材料
-
新能源 -
光電子 - 立即咨詢(xún)
-
生物醫(yī)療 -
其它行業(yè)
選擇創(chuàng)世威納的4大優(yōu)勢(shì)
-
01 多年專(zhuān)注 經(jīng)驗(yàn)豐富
從事微細(xì)加工設(shè)備、半導(dǎo)體工藝設(shè)備研發(fā)與銷(xiāo)售的高新技術(shù)企業(yè)。
-
02 緊跟世界 技術(shù)
采用國(guó)際上的“設(shè)備與工藝相結(jié)合”模式進(jìn)行研發(fā)、生產(chǎn)與銷(xiāo)售。
-
03 領(lǐng)域廣泛 設(shè)施齊全
產(chǎn)品定位于高新技術(shù)發(fā)展的基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)，可提供全套設(shè)備和單一設(shè)備。
-
04 穩(wěn)定性強(qiáng) 安全可靠
良好的售前服務(wù)平臺(tái)、完善的售后服務(wù)體系、廣泛的技術(shù)支持能力。
山東創(chuàng)世威納科技有限公司成立于2008年，現(xiàn)位于北京市昌平區(qū)回龍觀(guān)北京國(guó)際信息產(chǎn)業(yè)基地高新二街6號(hào)3層，擁有1800余平方米的組裝、調(diào)試車(chē)間、辦公區(qū)，現(xiàn)在我們更專(zhuān)注于真空等離子體技術(shù)，成為集研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售于一體的設(shè)備制造商。
公司通過(guò)了ISO質(zhì)量管理體系認(rèn)證，獲批高新技術(shù)企業(yè)，擁有4項(xiàng)發(fā)明及十余項(xiàng)實(shí)用新型，山東創(chuàng)世威納緊跟世界技術(shù)步伐，不斷提供技術(shù)、性能優(yōu)良的鍍膜設(shè)備、刻蝕設(shè)備、真空應(yīng)用定制設(shè)備及各類(lèi)真空等離子體設(shè)備，應(yīng)用于各研究院所、大專(zhuān)院校、企業(yè)單位。
企業(yè)概況發(fā)展歷程 企業(yè)資質(zhì) 企業(yè)文化-
ITO薄膜
2019-04-29
ITO 是一種N型氧化物半導(dǎo)體-氧化銦錫，ITO薄膜即銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜，通常有兩個(gè)性能指標(biāo)：電阻率和透光率。
-
PVD技術(shù)常用的方法
2019-04-29
PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射 、離子鍍（空心陰離子鍍、熱陰離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法。
-
常用真空術(shù)語(yǔ)
2019-04-29
常用真空術(shù)語(yǔ)：1.標(biāo)準(zhǔn)環(huán)境條件 standard ambient condition： 溫度為20℃，相對(duì)濕度為65%，大氣壓力為101325Pa=1013.25mbar=760Torr。
-
濺射沉積技術(shù)
2019-04-29
濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過(guò)粒子動(dòng)量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜技術(shù)具有可實(shí)現(xiàn)大面積快速沉積，薄膜與基體結(jié)合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可控性和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)，而且物質(zhì)都可以進(jìn)行濺射，因而近年來(lái)發(fā)展迅速，應(yīng)用廣泛。
-
氣體的放電
2019-04-29
在PVD實(shí)際中，你是否遇到過(guò)開(kāi)靶點(diǎn)不起來(lái)，需要充入更多的工作氣體或多關(guān)閉高閥才能正常點(diǎn)靶，是否遇到在輝光清洗時(shí)，產(chǎn)品“打火”，燒蝕壞產(chǎn)品的情況。其實(shí)這些都與氣體的放電有關(guān)，下面就聊聊與PVD相關(guān)的幾種放電類(lèi)型。
-
為什么PVD涂層可以沉積不同的顏色
2019-04-29
我們看到一個(gè)物體，首先感到是它的顏色。物質(zhì)的顏色是由人眼視覺(jué)看得到的。如果在沒(méi)有光線(xiàn)的密閉的暗室中，或在漆黑的夜里，物體的顏色是看不見(jiàn)的。只有在光照下，物質(zhì)的顏色才能為肉眼所見(jiàn)，所以我們說(shuō)顏色是光和眼睛相互作用而產(chǎn)生的。事實(shí)上，顏色是大腦對(duì)投射在視網(wǎng)膜上不同性質(zhì)光線(xiàn)進(jìn)行辨認(rèn)的結(jié)果。
-
5G時(shí)代來(lái)臨，不銹鋼中框加PVD方案將成新的趨勢(shì)
2019-04-29
隨著5G時(shí)代的臨近，行業(yè)內(nèi)公司紛紛布局產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)節(jié)點(diǎn)。行業(yè)相關(guān)人表示，看好金屬中框的產(chǎn)業(yè)節(jié)點(diǎn)優(yōu)勢(shì)，行業(yè)從“金屬外殼+金屬中框”向未來(lái)“金屬中框+雙面玻璃”的產(chǎn)業(yè)發(fā)展過(guò)程中，將需要7系鋁、不銹鋼甚至鈦合金等一類(lèi)加工技術(shù)壁壘更高、價(jià)值更高的金屬中框，以保持機(jī)身的強(qiáng)度和對(duì)大屏的支撐，這將顯著提高金屬中框產(chǎn)業(yè)價(jià)…
-
HIPIMS技術(shù)簡(jiǎn)介
2019-04-29
磁控濺射技術(shù)廣泛應(yīng)用于薄膜制備領(lǐng)域，裝飾鍍膜應(yīng)用領(lǐng)域和工具鍍膜應(yīng)用都比較常見(jiàn)，但磁控濺射處理技術(shù)有很多的局限性，例如磁控濺射靶功率密度受靶熱負(fù)荷的限制，即當(dāng)濺射電流較大時(shí)，過(guò)多的正離子對(duì)靶進(jìn)行轟擊可能使濺射靶過(guò)熱而燒損，濺射的能量有限金屬離化率不高等問(wèn)題。近年來(lái)國(guó)內(nèi)外發(fā)展起來(lái)了一種高功率脈沖磁控濺射…
-
iPhone不銹鋼中框+PVD工藝
2019-04-29
物理氣相沉積 (PVD) 著色工藝。金色和深空灰色外觀(guān)的不銹鋼邊框采用的物理氣相沉積著色工藝，使顏色和反射率與玻璃機(jī)身相得益彰。
-
PVD在顯示屏行業(yè)現(xiàn)狀
2019-04-29
PVD（Physical Vapor Deposition）技術(shù)，其實(shí)是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一。用于制備薄膜材料的物質(zhì)被稱(chēng)為PVD鍍膜材料。經(jīng)過(guò)多年發(fā)展，PVD 鍍膜技術(shù)被廣泛用于應(yīng)用于電子、光學(xué)、機(jī)械、建筑、材料等領(lǐng)域。
-
類(lèi)金剛石（DLC）簡(jiǎn)介
2019-04-29
類(lèi)金剛石（英文：Diamond-likeCarbon 縮寫(xiě)DLC）是一種非晶碳，這種材料表現(xiàn)出很多與金剛石相類(lèi)似的性質(zhì)，DLC常常作為涂層材料使用。
-
平衡磁控濺射和非平衡磁控濺射
2019-04-29
平衡磁控濺射即傳統(tǒng)的磁控濺射，是在陰靶材背后放置芯部與外環(huán)磁場(chǎng)強(qiáng)度相等或相近的永磁體或電磁線(xiàn)圈，在靶材表面形成與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng)。沉積室充入一定量的工作氣體，通常為Ar，在高壓作用下Ar 原了電離成為Ar+離子和電子，產(chǎn)生輝光放電，Ar+ 離子經(jīng)電場(chǎng)加速轟擊靶材，濺射出靶材原子、離子和二次電子等。
友情鏈接
聯(lián)系我們
山東創(chuàng)世威納科技有限公司
地址：北京市昌平區(qū)史各莊街道國(guó)際信息產(chǎn)業(yè)基地高新二街6號(hào)
座機(jī)：010-62907051轉(zhuǎn)801/802/830
傳真：010-62999722
高校、研究所科研設(shè)備銷(xiāo)售顧問(wèn)：
王經(jīng)理 13439433628
研究所、企業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)設(shè)備及各類(lèi)特種需求、前沿技術(shù)類(lèi)設(shè)備銷(xiāo)售顧問(wèn)：
王總經(jīng)理 13910555133
官方微信公眾平臺(tái)
官方微信公眾平臺(tái)
版權(quán)所有 @ 2025 山東創(chuàng)世威納科技有限公司 備案號(hào)：魯ICP備2025178463號(hào)-1